ESTUDO DO MECANISMO DE ELETRODEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTOS DE CU

Autores

  • Maria Gabriela Oliveira de Pinho
  • Pedro Queiros Santiago
  • Paulo Naftali da Silva Casciano

Resumo

Conhecer o processo de eletrodeposição é importante para entendimento e controle das propriedades de revestimentos de qualquer natureza. Além de melhorias em aspectos corrosivos, o fenômeno de Magnetorresristência Gigante é presente em revestimentos de Cu. O presente trabalho teve como objetivo estudar o mecanismo de eletrodeposição do cobre em meio aquoso. Análises voltamétricas foram realizadas em uma célula eletroquímica com eletrodo de trabalho de Pt, eletrodo de referência Ag/AgCl/〖"Cl" 〗_"sat" ^"-" e uma placa de Pt como eletrodo auxiliar. As soluções utilizadas foram: (a) 0,01 mol/L de CuSO4 + 0,1 mol/L de H2SO4 e (b) 0,01 mol/L de CuSO4 + 0,1×10–3 mol/L de H2SO4. Os parâmetros potencial de inversão (Einv), –0,1 V a –0,5 V, e velocidade de varredura (v), 10 mV/s a 100 mV/s, foram avaliados. O potencial de pico foi deslocado de 0 V para –0,1 V quando o pH da solução aumentou. A eficiência catódica (EC) aumentou com o pH de 80% para 92%. A EC apresentou valor máximo quando o Einv foi –0,2 V e diminuiu com o Einv de 80% para 40% na solução (a). Entretanto, na solução (b) foi observada EC máxima e constante de 92% quando para Einv ¬menores que –0,3 V. A menor EC observada na solução (a) ocorre por causa da elevada concentração de H+. Na solução (a), independente da v, foi observado controle difusional. Enquanto na solução (b), o controle difusional foi observado apenas em velocidades baixas. A transferência de carga na solução (b) é mais lenta quando comparada à solução (a). Isso justifica o deslocamento do potencial de pico para valores mais negativos com o aumento da v na solução (b).

Publicado

2019-01-01

Edição

Seção

IV Encontro de Iniciação Acadêmica